Новости науки "Русского переплета" Rambler's Top100
Портал | Содержание | О нас | Пишите | Новости | Книжная лавка | Голосование | Топ-лист | Регистрация | Дискуссия
Лучшие молодые
ученые России

Подписаться на новости

АВТОРСКИЕ НАУЧНЫЕ ОБОЗРЕНИЯ

"Физические явления на небесах" | "Terra & Comp" (Геология и компьютеры) | "Неизбежность странного микромира"| "Научно-популярное ревю"| "Биология и жизнь" | Теорфизика для малышей
Семинары - Конференции - Симпозиумы - Конкурсы

НАУКА В "РУССКОМ ПЕРЕПЛЕТЕ"
Проект поддержан Международной Соросовской Программой образования в области точных наук.
Новости из мира науки и техники
The Best of Russian Science and Technology
Страницу курирует проф. В.М.Липунов
"Русский переплет" зарегистрирован как СМИ. Свидетельство о регистрации в Министерстве печати РФ: Эл. #77-4362 от
5 февраля 2001 года. При полном или частичном использовании
материалов ссылка на www.pereplet.ru обязательна.

Тип запроса: "И" "Или"

11.03.2023
17:07

Intel завершила разработку техпроцессов 1,8 и 2 нм

    Компания Intel завершила разработку технологических процессов 18А (1,8 нм) и 20А (2 нм), которые будут применяться при производстве собственных микрочипов, а также для клиентов подразделения Intel Foundry Services, занимающихся выпуском чипов на заказ. Это не означает, что производственные узлы уже готовы для запуска серийного производства, но компания определила все спецификации, материалы и требования для обеих технологий.

    Технология Intel 20A будет основана на транзисторах с круговым затвором RibonFET и обходной подачей энергии. Одновременное уменьшение шага металлизации, внедрение новой структуры транзисторов и добавление обходной схемы подачи энергии — довольно рискованный шаг, на который компания пошла, чтобы обогнать своих конкурентов: TSMC и Samsung. Intel планирует начать использовать этот узел для серийного производства чипов в первой половине 2024.

    Цифровой прорыв: как искусственный интеллект меняет медийную рекламу Техпроцесс 18A позволит усовершенствовать технологии RibonFET и PowerVia, а также уменьшить размер транзисторов. Разработка этого узла идет настолько хорошо, что Intel перенесла его презентацию с 2025 года на вторую половину 2024-го. Изначально компания планировала использовать для узла 1,8 нм сканеры Twinscale EXE с оптикой с числовой апертурой 0,55, но из-за спешки ей придется довольствоваться сканерами с оптикой 0,33, пишет Tom’s Hardware.

    Intel надеется, что когда 1,8-нм техпроцесс достигнет промышленных объемов производства, он станет самым передовым в индустрии. Это должно произойти во второй половине следующего года.

    Помимо собственных нужд чипы, созданные по новым технологиям, будут изготавливаться компанией для сторонних клиентов. Этим занимается подразделение Intel Foundry Services. По словам Пэта Гельсингера, гендиректора Intel, семь крупных заказчиков проявляют большой интерес к этим разработкам, число потенциальных клиентов и партнеров достигает 43. Вдобавок, Intel уже показала документацию для проектирования процессов PDK 0.5 ведущим заказчикам и надеется подготовить окончательный релиз в ближайшие несколько недель.

    Ранее Гелсингер заявлял, что Intel планирует выйти на сборку чипов, включающих триллион транзисторов (это в 10 раз больше, чем сегодня в самых передовых решениях), к концу этого десятилетия. С помощью таких микросхем Intel хочет перейти к новой эпохе вычислительных возможностей, что обеспечит резкий скачок в производительности как в потребительской, так и в промышленной электронике.

    По информации https://hightech.plus/2023/03/07/intel-zavershila-razrabotku-tehprocessov-18-i-2-nm

    Обозрение "Terra & Comp".

Помощь корреспонденту
Кнопка куратора
Добавить новость
Добавить новости
НАУКА В "РУССКОМ ПЕРЕПЛЕТЕ"

Если Вы хотите стать нашим корреспондентом напишите lipunov@sai.msu.ru

 

© 1999, 2000 "Русский переплет"
Дизайн - Алексей Комаров

Rambler's Top100